當地時間周一(4月11日)，芯片巨頭英特爾正式啟動擴建其位于美國俄勒岡州的D1X工廠，該公司將為此投資30億美元，旨在加速技術開發，以重新獲得芯片行業的領導地位。

據英特爾高級副總裁Sanjay Natarajan介紹，擴建面積為27萬平方英尺，完成后將使D1X工廠的規模增加20%。

英特爾表示，這次升級將使該公司能用使用巨大的新型制造工具來生產先進的芯片，之后將在英特爾在世界上的其他工廠復制這一模式。

英特爾的總部在硅谷，但自上世紀90年代以來，它最先進的研究一直在俄勒岡州進行。

據了解，英特爾的10nm制程晚了好幾年，這使得臺積電和三星電子等公司能提供比英特爾產品更好的外包生產。臺積電和三星電的客戶，例如英偉達和AMD，已推出更具競爭力的產品并搶下市占，擠壓英特爾。

D1X-Mod3的主要工作實際上從去年8月份就開始了，其重大意義在于，為工廠增加了2.5萬平米的潔凈室空間，將D1X擴大了20%，這便為最終足以搬進ASML的下一代最先進高數值孔徑（High NA）EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200 EUV創造必要條件。

和服務Intel 3/4工藝的NXE 3000系列EUV光刻機相比，EXE 5200大了很多，突破了D1X原“天花板”。

為重新獲得芯片行業的領先地位，英特爾首席執行官Pat Gelsinger此前承諾，該公司將投資800億美元在亞利桑那州和俄亥俄州以及德國建立新工廠，并將在芯片研究上再投資數十億美元。

英特爾的大規模投入固然激發了公司在技術領域獲得進步的動力，但卻讓投資者感到震驚，并打壓了公司股價。這家芯片制造商曾警告稱，在未來數年里，公司的利潤率都將受到限制。

英特爾希望美國和歐盟能賦予其巨額補貼，從而抵消部分支出。而美國總統拜登同樣希望扶持本土芯片制造業。

目前，美國國會兩黨對一項價值520億美元的芯片補貼法案已達成共識，但由于該法案被包括在另一項更廣泛的支出法案中，在國會被擱置了數月之久，原因是兩黨對眾議院版本中的部分條款存在分歧。國會上周為此成立了一個專門委員會，旨在解決分歧，為最終通過法案掃清道路。