傳統的光學薄膜制備方法是以物理氣相沉積（PVD）為核心的一系列物理方法，已有一百多年的發展歷史，其理論、設備、軟件均已非常成熟，市場占有率大。物理法鍍膜精度高，適合小口徑平面元件多層鍍膜，設備投資大，維護費用高，是重資產項目。

目前，物理法光學薄膜基本是一個封閉的技術領域，從科學的角度，學術外延不廣。而化學法光學薄膜得益于納米材料和新能源技術的迅猛發展，正面臨源源不斷的新需求和新挑戰，潛力巨大，是一個值得大力投入的方向。

化學法分為化學氣相沉積和液相外延兩種。理論上，化學氣相沉積法可以做到的薄膜，液相外延法均可以做到。液相外延法主要指溶膠凝膠法（Sol－Gel）：將光學基片以某種方式與預配好的鍍膜液（膠體或溶液）接觸并漸次通過液體區，利用溶劑揮發速度和液體流動速度的匹配，在基片表面形成一層不能夠流動的沉積層。

溶膠凝膠法鍍膜精度不如物理法，但適合大口徑平面或異形元件鍍膜，設備投資少，維護費用低，是輕資產人才密集型項目。溶膠凝膠法與物理法二者互為補充，各有優缺點，一旦結合，可能創新出性能優越、單一方法難以制備的薄膜材料。

溶膠凝膠化學是古老的膠體化學的一個現代分支。自從幾十年前有機硅醇鹽的誕生以來，以二氧化硅顆粒的硅醇鹽路線合成為起始和代表的溶膠－凝膠化學把古老的膠體化學推動到了嶄新的發展階段，溶膠－凝膠化學就此展開其眾多的研究分支和豐富多彩的應用領域。

雖然溶膠－凝膠化學是一個應用性很強的研究領域，但鑒于其化學基礎研究涉及溶液中的化學反應動力學、膠體成核理論、膠體粒子生長理論以及多相體系的化學反應，是一個相當復雜的過程，同時由于膠體粒子尺寸處于納米尺度，在微觀結構表征方面也存在相當的難度，所以研究溶膠－凝膠化學基礎又是極有挑戰性的工作。

溶膠－凝膠法用于鍍制光學薄膜最早出現在上世紀六十年代末，St?ber等人利用TEOS在乙醇溶劑中在氨水催化下的水解和縮聚制備了球型單分散的SiO2顆粒，并由此制備了第一個減反射膜。之后不久，1969年，Schroeder就單層和多層溶膠－凝膠薄膜發展了一套薄膜物理。在1994年的《Laser Focus World》第九期，Thomas V． Higgins發表了一篇關于光學薄膜及薄膜光學的簡單回顧。從Fresnel提出著名的物理光學Fresnel方程，到Maxwell提出電磁理論，Lorentz提出電磁輻射的偶極模型，直至William T． Doyle把Fresnel方程用電磁場理論重新表達，薄膜光學形成了統一的理論體系。但此時，溶膠凝膠法在光學薄膜領域并未占有多少分量。

隨著高能量激光器的出現，同時對高功率超短脈沖激光的追求，相關激光物理現象的研究也需要更高能量的激光，而高能量激光具有極大的破壞力，因此對光學元件耐激光損傷能力的提高就非常迫切。物理法制備薄膜最大的缺點就是抗激光損傷能力差，這極大地限制了其在高能量激光器光學元件上的應用，此時溶膠－凝膠法鍍膜作為一種可能的替代技術獲得了較大發展。溶膠－凝膠法成為高能量激光器光學系統的首選鍍膜方法。

作為液相外延法，溶膠凝膠鍍膜可以使用多種鍍膜工藝，包括提拉法（dip－coating）、旋涂法（spin－coating）、噴涂法（spray－coating）、彎月面法（meniscus－coating）等方法。無論采取哪種鍍制技術，薄膜的成膜機理是一致的，在制備過程中要嚴格控制沉積參數和環境條件。

由左至右依次為：噴涂法、彎月面法、旋涂法、提拉法示意圖

具體鍍制方法的選擇主要取決于基底尺寸及其幾何形狀、鍍膜要求（單面或雙面）、鍍膜成本以及前驅溶膠的壽命等：

彎月面法需要的溶膠量較少，適合中等尺寸平面基片上沉積單面多層薄膜或者雙面異質薄膜，沒有重力對流體的影響，鍍膜均勻性非常好。

從最早的硅醇鹽或金屬醇鹽水解的溶膠凝膠法開始，逐漸衍生出很多相關的濕化學方法，都可以用來制備光學薄膜，以適用于不同的要求。比如，非水體系溶膠凝膠法、水熱或溶劑熱法、溶膠－溶劑熱法、沉淀－重分散法等等。應用這些方法可以制作品種繁多的光學薄膜，比如，非線性光學晶體保護膜，用于固體激光器的三波長減反膜，疏水疏油減反膜，用于無色差鏡頭的MgF2納米晶減反膜，用于光伏、光熱太陽能器件、平板顯示等的寬譜帶減反射膜，用于柔性顯示屏的有機無機雜化減反膜，VO2隔熱膜，高反膜等等。

作為一種只有五十年歷史的薄膜制備方法，以溶膠凝膠法為核心的液相外延法已經在各行各業得到應用，在光學薄膜領域的應用也會越來越受到重視。可以展望，未來的柔性顯示技術、分布式光熱電站、手機顯示屏等很多設計光學性能要求的工業產品都需要化學法鍍膜。