荷蘭設備大廠艾司摩爾（ASML）并購股后漢微科，牽動臺積電與三星的制程競賽。設備業者認為，ASML并購漢微科之后，可能協助三星加快7納米量產，使得臺積電與三星的7納米大戰戰火更烈。

　　業界觀察，三星在10納米制程失利之后，已宣布提前7納米量產計劃，率先在7納米導入ASML量產的極紫外光微影制程（EUV）設備機臺。三星規劃，明年第2季或第3季EUV機臺裝設完工之后，明年底就會用于量產7納米芯片。

　　臺積電在7納米制程尚未導入EUV設備。由于ASML并購漢微科之后，在先進制程機臺能量大幅提升，業界密切關注ASML是否會協助三星加快7納米布局，以及臺積電后續因應動作。

　　臺積電表示，對ASML并購漢微科持肯定態度，預期以ASML雄厚財力，可以讓漢微科有更大的后盾，支持在電子束檢測更先進的研發。

　　對于三星提前在7納米采用EUV微影制程，臺積電表示，考量目前EUV設備還有很多技術瓶頸，公司才決定不在7納米導入使用，將緊盯對手發展。臺積電強調，若EUV設備在2018年更成熟，該公司也會采取應變對策，絕不會讓對手取得先機。

　　帆宣信邦戰略地位提升

　　艾司摩爾（ASML）宣布以新臺幣千億元并購漢微科之后，將強化在臺研發能量及采購比重，ASML在臺四大夥伴帆宣、公準精密、信邦，以及大銀等臺灣業者，重要性同步拉升。

　　ASML很早就與臺灣建立關系，1988年由漢民代理臺灣業務，2007年進一步在臺成立卓越創新中心，陸續將全球訓練中心、二手設備翻修業務，以及子公司YieldStar量測系統生產線移到臺灣，就近服務客戶及支援全球。

　　ASML并把亞洲采購中心移到臺灣，從臺灣上百家供應商中，幾經輔導評核等程序，選出帆宣、公準、信邦、大銀等成為ASML主要供應商，間接協助提升臺灣半導體業整體技術能力。

　　閱報秘書 EUV

　　極紫外光微影制程 （EUV）技術是次世代微影技術之一，被半導體業視為跨入10納米制程以下，取代傳統浸潤式曝光（Immersion）、延續摩爾定律的一項重要微影技術。

　　浸潤式曝光機臺是在光源與晶圓中間加入水的原理，使波長縮短到132納米的微影技術；EUV曝光設備是利用波長極短的紫外線，在矽基板上刻出更微細的電路圖案。

　　EUV售價昂貴，一臺售價高達7，000萬歐元（約新臺幣25.6億元），主力設備開發廠艾司摩爾（ASML）為降低開發風險，過去曾要求英特爾、三星及臺積電以入股，共同參與這項先進微影技術開發，如今相關量產設備已陸續出貨，和浸潤式曝光機搭配使用，開始導入在10納米以下先進制程。